Filem Polietilena UHMW mempunyai rintangan lelasan yang sangat tinggi, melebihi rintangan lelasan keluli.Ditambah dengan rintangan kimia yang luas dan pekali geseran yang rendah menjadikan UHMW sebagai bahan kejuruteraan yang sangat serba boleh untuk banyak aplikasi perkhidmatan yang teruk.Licin seperti polimer® Fluoropolymer, tetapi sangat tahan lelasan & tahan haus.Polimer UHMW mempunyai purata berat molekul 10 kali ganda daripada resin polietilena berketumpatan tinggi konvensional.Berat molekul yang lebih tinggi memberikan Polimer UHMW gabungan ciri-cirinya yang unik Aplikasi: Permukaan dalam dan luar untuk air boleh diminum, bahan kimia, bahan api dan hos hidraulik, permukaan bawah untuk papan ski dan salji, pelapik untuk pelongsor untuk mengurangkan geseran dan haus.
Filem skived komersial polietilena berat molekul ultra-tinggi (UHMWPE) dengan orientasi uniaksial tinggi1 telah dikaji semasa lebur dan penghabluran dengan resolusi masa 30 saat untuk mengenal pasti mekanisme penghabluran.
Didapati bahawa penghabluran isotropik berlaku apabila leburan dipanaskan hingga 140◦C atau lebih tinggi.Penghabluran berorientasikan berlaku, jika leburan disimpan pada 138◦C atau lebih rendah.Suhu penyepuhlindapan leburan optimum ialah 136◦C.Pada suhu ini, struktur nano semikristalin filem asal dipadamkan sepenuhnya, manakala memori orientasi leburan dikekalkan.Selain itu, penghabluran isoterma tidak boleh dimulakan pada suhu 110◦C dan lebih tinggi.Pada suhu 105◦C penghabluran berorientasikan bermula selepas 2.5 min.Lamela dengan ketebalan berkurangan perlahan-lahan tumbuh dalam tempoh seisoterma selama 20 minit.
Semasa penghabluran bukan isoterma berikut (kadar penyejukan: 20◦C/min) blok kristal kecil dengan korelasi jiran seterusnya terbentuk.Oleh itu, mekanisme penghabluran adalah serupa dengan yang ditemui dengan bahan polietilena lain dengan ketumpatan belitan rantai yang cukup tinggi yang dikaji sebelum ini, kecuali penyejukan kurang yang diperlukan untuk memulakan penghabluran isoterma.
Analisis data dalam ruang sebenar melalui CDF berbilang dimensi telah dilakukan.Semasa lebur bahan, ketebalan purata lapisan kristal kekal malar (27 nm), manakala tempoh yang panjang meningkat dengan kuat daripada 60 nm kepada 140 nm.Kerana analisis menunjukkan bahawa walaupun struktur nano asal didominasi oleh korelasi jiran seterusnya, ini bermakna kestabilan lamella meningkat secara monoton sebagai fungsi jarak ke jirannya.Walaupun struktur asal mempamerkan lamella yang dilanjutkan, domain penghabluran semula tidak lebih luas daripada jarak antara mereka dalam arah gentian s3.
Aplikasi termasuk lapisan penghantar, rel panduan, pelapik pelongsor, panduan rantai, luncuran laci dan pengurangan hingar.Lelasan dan rintangan haus yang sangat baik.
Masa siaran: Jun-17-2017